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超高精度電鑄造微細(xì)管

照片產(chǎn)品：Φ0.015mm

組成材質(zhì)：不銹鋼、鈹銅等

薄膜材質(zhì)：鎳、銅、金等

外徑尺寸：0.03mm

一般公差：±0.005mm

精密公差：0.0005mm（更高精密也對(duì)應(yīng)）

總長(zhǎng)：2000mm

隨著集成電路規(guī)模的日益增大，元器件越來(lái)越小，各種微電子電路的尺寸間距、引線(xiàn)都已突破微米向納米前進(jìn)，這就產(chǎn)生了超微加工技術(shù)。

這種技術(shù)的關(guān)鍵是形成微加工區(qū)和引線(xiàn)光刻技術(shù)。為了提高加工精細(xì)水平，由傳統(tǒng)的接觸掩膜光刻發(fā)展到投影光刻，并采用波長(zhǎng)短的紫外光同步輻射或電子束作為光（輻射）源，用它們進(jìn)行曝光可以獲得更高的分辨能力。與超精細(xì)光刻技術(shù)配合的超微加工技術(shù)還有自對(duì)準(zhǔn)技術(shù)、離子注入摻雜、激光淀積布線(xiàn)。今后的微細(xì)加工方向，將是對(duì)這些裝置進(jìn)行改良，開(kāi)發(fā)分辨能力更高的抗蝕劑，以及采用能看到原子的掃描隧道顯微鏡STM和場(chǎng)離子顯微鏡FIM等。

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